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          半導體廢氣處理方法_電子半導體廠廢氣處理方法有哪些?

          環保領域專家
          • 格林斯達環保
          • 擅長:半導體廢氣處理工藝技術,專注環保領域19年

          半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分,在工藝過程中,這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。其廢氣的主體是VOCs,同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物,分離和處理難度比較大。下面格林斯達環保公司為您介紹半導體廢氣處理方法:

          半導體酸廢氣處理方法

          半導體酸廢氣處理通常采用堿液體噴淋法,又稱化學洗滌法。因液體自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而達到大氣排放標準,故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。

          新材料行業半導體廢氣處理的方法

          新材料行業與傳統材料相比,新材料產業具有技術高度密集,研究與開發投入高,產品的附加值高,生產與市場的國際性強,以及應用范圍廣,發展前景好等特點,其研發水平及產業化規模已成為衡量一個國家經濟,社會發展,科技進步和國防實力的重要標志,世界各國特別是發達國家都十分重視新材料產業的發展。

          作為新材料產業的代表之一,半導體工藝對操作室清潔度要求極高,通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣,因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。這些廢氣排放主要可以分為四類:酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

          RTO蓄熱式焚燒爐設備,簡稱“RTO設備”,是采用高溫破壞焚燒的廢氣治理技術。采用的升溫能源一般是電和天然氣,雖然采用高溫700℃的溫度進行廢氣處理,但其實消耗的能源并不多,這是因為設備能夠將熱能回收利用,大大降低能量消耗的同時提高了廢氣分子的燃燒反應速率。設備的主體由燃燒室、陶瓷填料床和轉換閥等構成。設備的凈化效率也維持穩定在99%以上。

          RTO設備

          半導體行業廢氣處理方法以及對比

          半導體行業有機廢氣處理方法,通常先用沸石轉輪對VOCs進行吸附濃縮之后,再用直接燃燒法進行銷毀,廢氣凈化率達到97%以上。

          直接燃燒又稱為直接火焰燃燒,它是把VOCs可燃組分直接燒掉,因此該方法適用于凈化可燃有害組分濃度較高的廢氣,或者凈化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣;多種可燃氣體或多種溶劑蒸氣混合在廢氣中,只要濃度值適宜,也可以直接燃燒。如果可燃組分的濃度高于燃燒上限,可以混入空氣后燃燒;如果可燃組分的濃度低于燃燒下限,則可以加入一定數量的輔助燃料如天然氣等,維持燃燒。

          格林斯達環保專注于企業廢氣處理,致力于提供系統化工藝排氣系統集成方案和自主研發的核心環保設備。有需要請聯系:400-9655-098 / 138-1114-8535(同微信)。


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